半导体蚀刻
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如何撰写半导体蚀刻领域的专利申请?
标题与技术领域:《一种半导体生产用蚀刻设备及其方法》技术领域:本实用新型涉及半导体蚀刻设备领域,具体为一种用于半导体生产的蚀刻加工设备及方法,背景技术现有技术描述:半导体技术广泛应用于集成电路、消费电子等领域,在半导体制造过程中,蚀刻技术是核心环节之一,现有的蚀刻技术包括湿法和干法蚀刻,但普遍存在蚀刻精度不高……
标题与技术领域:《一种半导体生产用蚀刻设备及其方法》技术领域:本实用新型涉及半导体蚀刻设备领域,具体为一种用于半导体生产的蚀刻加工设备及方法,背景技术现有技术描述:半导体技术广泛应用于集成电路、消费电子等领域,在半导体制造过程中,蚀刻技术是核心环节之一,现有的蚀刻技术包括湿法和干法蚀刻,但普遍存在蚀刻精度不高……