专利授权是专利权人对其发明创造享有的一种专有权利,这种权利的获得需要经过专利申请、审查、授权等一系列程序,什么专利需要授权呢?本文将从以下几个方面进行详细介绍:
发明专利
1、定义:发明专利是指对产品、方法或者其改进所提出的新技术方案,发明专利的保护期限一般为20年,自申请日起计算。
2、授权条件:发明专利需要满足以下三个条件才能获得授权:
(1)新颖性:是指在申请日之前,国内外没有公开过同样的发明或者实用新型,这里的公开包括出版物公开、使用公开和以其他方式公开。
(2)创造性:是指与现有技术相比,该发明具有显著的技术进步或者有显著的经济效果。
(3)实用性:是指该发明能够在实际生产中制造或者使用,并且能够产生预期的效果。
实用新型专利
1、定义:实用新型专利是指对产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新技术方案,实用新型专利的保护期限一般为10年,自申请日起计算。
2、授权条件:实用新型专利需要满足以下两个条件才能获得授权:
(1)新颖性:是指在申请日之前,国内外没有公开过同样的实用新型或者外观设计,这里的公开包括出版物公开、使用公开和以其他方式公开。
(2)实用性:是指该实用新型能够在实际生产中制造或者使用,并且能够产生预期的效果。
外观设计专利
1、定义:外观设计专利是指对产品的形状、图案或者其结合以及色彩、形状、图案的结合所作出的富有美感并适于工业应用的新设计,外观设计专利的保护期限一般为10年,自申请日起计算。
2、授权条件:外观设计专利需要满足以下两个条件才能获得授权:
(1)新颖性:是指在申请日之前,国内外没有公开过同样的外观设计,这里的公开包括出版物公开、使用公开和以其他方式公开。
(2)富有美感并适于工业应用:是指该外观设计既要具有美感,又要能够在工业产品上实际应用。
植物新品种专利
1、定义:植物新品种专利是指对已知植物品种中尚未发现的显著特性的新组合所授予的专有权,植物新品种专利的保护期限一般为20年,自申请日起计算。
2、授权条件:植物新品种专利需要满足以下两个条件才能获得授权:
(1)新颖性:是指在申请日之前,国内外没有公开过同样的植物品种,这里的公开包括出版物公开、使用公开和以其他方式公开。
(2)显著性:是指该植物新品种与已知品种相比具有显著的差异。
集成电路布图设计专有权
1、定义:集成电路布图设计专有权是指对集成电路产品的拓扑结构进行保护的一种知识产权,集成电路布图设计专有权的保护期限为10年,自首次投入商业利用之日起计算。
2、授权条件:集成电路布图设计专有权需要满足以下两个条件才能获得授权:
(1)独创性:是指在申请日之前,国内外没有公开过同样的集成电路布图设计,这里的公开包括出版物公开、使用公开和以其他方式公开。
(2)创作高度:是指该集成电路布图设计的创作具有一定的高度,体现了创作者的智慧劳动成果。
相关法律问题解答
问题1:如何判断一个发明创造是否具有新颖性?
答:判断一个发明创造是否具有新颖性,需要查阅国内外的专利文献、非专利文献、技术标准等,对比分析该发明创造与已有技术的差异,如果在该发明创造的申请日之前,国内外没有公开过同样的发明或者实用新型,那么该发明创造就具有新颖性。
问题2:如何判断一个发明创造是否具有创造性?
答:判断一个发明创造是否具有创造性,需要对比分析该发明创造与已有技术的差异,以及该发明创造所带来的技术进步和经济效果,如果该发明创造与现有技术相比具有显著的技术进步或者有显著的经济效果,那么该发明创造就具有创造性。
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