有什么专利发明？探寻那些独特的创新成果，究竟有什么专利发明值得关注？

一、专利发明详细说明

1、光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化方法：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司和中芯国际集成电路制造（北京）有限公司取得一项名为“光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化方法”的专利，授权公告号为CN112445059B，该专利涉及半导体制造领域，通过优化光学邻近修正和光掩膜版制作工艺，提高了芯片制造的精度和效率。

2、半导体结构及其形成方法：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司与中芯国际集成电路制造（上海）有限公司联合申请的“半导体结构及其形成方法”发明专利正式公开，专利号为CN202310779118.8，该专利涉及一种新型半导体结构，旨在提升闪存器件的性能稳定性。

3、GOI测试结构：中芯国际集成电路制造（天津）有限公司、中芯国际集成电路制造（北京）有限公司及中芯国际集成电路制造（上海）有限公司联合申请的一项名为“GOI测试结构”的发明专利，预计将于2024年12月31日正式公开，该专利涉及一种新型的GOI测试结构，主要用于集成电路制造过程中的质量检测。

4、存储单元、存储器及其工作方法：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司与中芯国际集成电路制造（上海）有限公司联合申请的一项名为“存储单元、存储器及其工作方法”的专利，公开号为CN119156008A，申请日期为2023年6月，该专利涉及一种存储单元、存储器及其工作方法，能够提高存储设备的性能和可靠性。

5、单端读取电路、存储器及其读取方法：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司向国家知识产权局申请的一项名为“单端读取电路、存储器及其读取方法”的专利正式公布，该专利申请于2023年6月提交，该专利涉及一种单端读取电路、存储器及其读取方法，能够提高存储器的读取速度和准确性。

二、单元表格

三、相关问题与解答

1、什么是专利发明？

专利发明是指对产品、方法或者其改进所提出的新的技术方案，它是技术创新的重要体现，可以通过申请专利获得法律保护。

2、专利发明有哪些类型？

专利发明主要包括发明专利、实用新型专利和外观设计专利，发明专利是最主要的一种，它涵盖了产品发明和方法发明。

3、如何申请专利发明？

申请专利发明需要提交一系列文件，包括请求书、说明书、权利要求书等，还需要缴纳相应的申请费用，具体的申请流程和要求可以咨询专业的知识产权代理机构或律师。

4、专利发明的保护期限是多久？

专利发明的保护期限根据专利类型的不同而有所差异，发明专利的保护期限为20年，实用新型专利和外观设计专利的保护期限为10年。

5、专利发明在商业竞争中有什么作用？

专利发明在商业竞争中具有重要作用，它可以为企业提供技术优势和市场竞争力，保护企业的创新成果不被侵犯，拥有专利发明还可以增加企业的无形资产价值，提高企业的融资能力和品牌影响力。