专利技术点是指在专利申请中，对发明创造的技术方案进行具体描述和限定的部分，它通常包括以下几个方面：
1、技术领域：简要说明发明创造所属的技术领域，以便读者了解该发明创造的背景和应用领域。
2、背景技术：介绍与发明创造相关的现有技术，包括已有的技术方案、产品或方法等，这部分内容应客观、准确地描述现有技术的优点和不足，以突出发明创造的创新点。
3、发明内容：详细描述发明创造的技术方案，包括其结构、原理、功能等方面的具体内容，这部分内容应清晰、完整地展示发明创造的特点和优势，使读者能够充分理解发明创造的技术实质。
4、实施方式：对发明创造的技术方案进行具体的实施方式描述，包括实施步骤、操作方法、设备配置等，这部分内容应具体、明确，使读者能够根据描述实施发明创造。
5、附图说明：如果发明创造涉及结构设计或工作原理，可以提供相应的附图来辅助说明，附图应清晰、简洁，便于读者理解发明创造的技术方案。
6、优点和效果：总结发明创造相对于现有技术的优点和效果，包括技术创新、性能提升、成本降低等方面，这部分内容应客观、准确地评价发明创造的价值，以增强专利的实用性和可行性。
7、保护范围：明确发明创造的保护范围，包括技术特征、技术方案等，这部分内容应具体、明确，使读者能够清楚地了解发明创造的保护边界。
在撰写专利技术点时，应注意以下几点：
1、语言表达要准确、清晰，避免使用模糊、不明确的词汇和表述。
2、描述内容要全面、具体，确保读者能够充分理解发明创造的技术实质。
3、遵循专利法规和规范，确保专利申请的合法性和有效性。
4、注重专利技术的创新性和实用性，提高专利申请的成功率。
以下是一个介绍，概述了上述参考信息中提到的专利技术点：
| 公司名称 | 专利号/名称 | 技术点描述 | 申请日期 | 授权公告日期 |
| 三星电子 | CN112442371B（量子点、其制造方法等） | 1. 无镉量子点发射蓝色光 | 2020年8月 | 2024年4月15日 |
| 2. 包括第一半导体纳米晶体芯和半导体纳米晶体壳 | ||||
| 格力电器 | CN108412809B（一种导流圈、离心风机等） | 1. 导流圈设计，实现进风和出风均匀 | 2018年3月 | 2024年4月13日 |
| 2. 进风部设有第一导流弧面，出风部设有第二导流弧面 | ||||
| TCL科技 | CN113972342B（量子点薄膜及其制备方法等） | 1. 量子点薄膜制备方法，提高电光效率和寿命 | 2020年7月 | 2024年5月2日 |
| CN202211490472.0（量子点及其制备方法等） | 2. 提高量子点的质量和发光效率 | 2022年11月 | 2024年5月29日 | |
| 神州泰岳 | （管廊巡检方法及系统） | 1. 软件定义巡检点，解决实体硬件化的局限性问题 | 未提供 | 2024年5月8日 |
| 苹果公司 | （在物理环境的基于点的表示中表示平坦表面） | 1. 生成物理环境的3D表示，提供更清洁和紧凑的表示 | 2022年8月 | 2024年5月2日 |
| 格力电器 | CN109587983B（电器盒及具有电器盒的装置） | 1. 电器盒安全性提升，通过设置挡筋防止火焰蔓延 | 2018年11月 | 2024年4月13日 |
| 2. 提供导线引出路径，穿过挡筋与出线口形成的间隙 |
请注意，介绍中的申请日期和授权公告日期是根据上述参考信息提供的，可能存在未提供的情况，技术点描述仅简要概述了各专利的主要技术创新之处。
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