布图设计的复制件要求及复审请求提出条件包括提交要求、复制件质量等方面；布图设计复审请求的提出条件包括时间限制、文件材料等。
布图设计的复制件要求：
1、提交要求：根据指导文件，申请集成电路布图设计登记时，需向国家知识产权局提交布图设计登记申请表一式两份以及布图设计的复制件或图样一份。
2、复制件质量：提交的布图设计复制件或图样应确保清晰、精确，以便能准确反映布图设计的内容和特征。
3、形式与格式：复制件或图样需要至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上，并且可以使用A4纸格式，如果大于A4纸的，应当折叠成A4纸格式。
4、电子版本提交：申请人可以选择同时提供复制件或图样的电子版本，这应当包含布图设计的全部信息，并注明文件的数据格式。
5、附加文字说明：布图设计的复制件或图样可以附带简单的文字说明，阐述集成电路布图设计的结构、技术、功能以及其他需要说明的事项。
布图设计复审请求的提出条件：
1、时间限制：布图设计登记申请人在收到国务院知识产权行政部门驳回其登记申请的通知书后，应在三个月内向国家知识产权局提出复审请求。
2、文件材料：请求复审时，需要提交复审请求书，并说明理由，必要时还应附上相关证据，复审请求书应当符合规定的格式，不符合格式的，相关部门会通知请求人在指定期限内补正。
3、提交方式：复审请求文件可以通过邮寄方式提交，地址为北京市海淀区蓟门桥西土城路6号，国家知识产权局专利局复审和无效审理部，邮编100088。
4、审查与决定通知：国务院知识产权行政部门进行复审后，会作出决定并通知布图设计登记申请人，如果申请人对复审决定不服，可以在收到通知之日起三个月内向人民法院提起诉讼。
布图设计的复制件提交应严格遵守规定的形式与质量要求，以确保知识产权的有效保护，了解复审请求的提出条件与步骤，对于维护申请人的合法权益同样重要，通过遵循这些详细的规范和指南，申请人可以促进其布图设计获得更为全面和坚实的法律保护。
图片来源于互联网，如侵权请联系管理员。发布者：观察员，转转请注明出处：https://www.kname.net/ask/77827.html
